網(wǎng)友解答: 魂舞大漠注意到了11月29日的消息，一內(nèi)行有這樣的評述，實事上，又一顆大白菜又被兔子給拱了。呵呵，我們高興。有一門外漢卻說了，這個只是實驗品，用于芯片廠的我們有嗎？還沒有高精

魂舞大漠注意到了11月29日的消息，一內(nèi)行有這樣的評述，實事上，又一顆大白菜又被兔子給拱了。呵呵，我們高興。有一門外漢卻說了，這個只是實驗品，用于芯片廠的我們有嗎？還沒有高精度鏡頭，也沒有高精度對準技術，精度只是阿斯麥的十萬分之一，可是我們看到，中芯國際訂購的7納米級EUV明年就到貨了呢，噫，向來依據(jù)“瓦納森協(xié)定”，這種光刻機可是對我嚴格禁止出口的，這又是怎么回事？美國揮動制裁大棒，制裁中興，不過眼巴前發(fā)生的事呀，讓我們通過實事，來戳穿一些謊言，一觀實事真相如何？先來理清這位門外漢的迷霧，他說的這些，對我們來說都有了，技術上在國際上領了先，且領先不是一星半點，只是他根本不懂，人云亦云罷了。僅光電所在國際上申請的專利就有4項，其它4項已被人申請。通過研發(fā)，所可喜的是，人才隊伍已是兵強馬壯，技術上撥開了迷霧，已來到了一個大的突破期。光電所的精英們說了，可以保證，下一步就是彎道超車的問題。好了，下面就讓我們來做番梳理。

▲名字之下。藏多少貓膩，英文不好，不關注科技者，不知ASML在我們這就叫阿斯麥，而艾司摩爾正是臺灣的叫法，其臺積電占有5%的股權。韓國三星3%，英特爾有15%，荷蘭這家公司，不過，大國協(xié)作的產(chǎn)物，什么美國的光源，德國蔡司鏡頭等等，他們都是該公司的股東，因此成就了ASML的名頭。由于很多技術突破了物理的極限，使用的名詞，不為尋常百姓所熟知，突破了極限，要的是精度，芯片體積才可以造的越來越小呀。中國每突破一極限，美國為代表的西方國家，即開始對中國出口相關產(chǎn)品，成為規(guī)律，誰不掙錢都著急，2015年剛說要將65納的設備給我們，今年阿斯麥就宣布，7納的光刻機對中國一視同仁，嘻嘻，謝謝您的仁慈，誰都能聽出來，中國沒有的話，實事上根本不可能，不少噴子納悶極了，我們的進步，有這么快？是的，由不得你眨下眼睛。國際上現(xiàn)在最先進的芯片也就是這個水平了，中興還是回國創(chuàng)業(yè)吧。

▲新聞背后。光刻機是集成電路產(chǎn)業(yè)的一顆最璀璨的明珠，閃爍著高難問的光輝，如同航空產(chǎn)業(yè)的發(fā)動機一樣，由于技術門檻非常之高，一般人拱不動的，日本由于收購德國亞深，掌握了深紫外光源技術和物鏡技術，其尼康和佳能也能做22納的水平，這些年還是發(fā)了些財?shù)模悦空劶叭毡拘酒?，總有人投去羨慕的目光。我們收不動，大約也只能自家研發(fā)，透過新聞報道，我們可以看到，我們走了一條不同的路，取得了更高的精度，有稱世界首臺用紫外光源實現(xiàn)22納的EUV，采取多次曝光技術可以實現(xiàn)10納，我們不吹，10納以下是一個級別，所以7納亦可有望實現(xiàn)之。至少打破了禁運規(guī)則，他們再想賺錢，不得不重新審定，只是手里還有嗎？由此看來，人家比咱們有些人要明白，能賺則賺，這回中國先，要來幾臺？所以新聞說，可以達到一致的水平。年初要制裁，年底被打臉，這一掌摑出了深紫之血。

▲中國光刻。我們使用的光源，為固態(tài)深紫外，不同于阿斯麥的離子束，我們的優(yōu)點比較細，可使設備小巧得多，成本還低。二看物鏡的鏡片，荷蘭使用的是磁流變和離子束，輔之以手工，加工慢，人工成本自然就高，我們則實現(xiàn)了全自動。此二者都是日本根本不可能完成的。以現(xiàn)在的技術，產(chǎn)業(yè)以后，以其壽命長，產(chǎn)率高，可以白菜價占領14納的市場。致于極紫外的，現(xiàn)在都在努力，據(jù)說0.1納的鏡片，我們已攻克，上面鍍的一層原子膜，中國說是第二，無人敢講第一。據(jù)悉日本不敵已敗走，阿斯麥為此正在吭哧憋肚。年初中芯花錢買來的7納EUV，每臺1.2億美刀，我們的量產(chǎn)后，不過千萬級。請記住，2018年11月29日，這一天是有重大意義的，魂舞大漠去各大網(wǎng)站走了一遭，看到網(wǎng)友們無不為咱們?nèi)〉玫某删蜌g欣鼓舞。

這臺光刻裝備從商業(yè)上雖然還不能取代ASML的光刻機，但是在技術上的確是取得了不小的突破。

目前最先進的EUV光刻機可以做到7nm工藝，而國產(chǎn)光刻機單次曝光最高線寬分辨率可以達到22nm，結合多重曝光技術后，可以達到10nm工藝。當然，國產(chǎn)光刻機的水平并不是7nm和10nm的比較這么簡單，我們也要了解一下它的局限和突破。

先說局限，目前這臺光刻機只能加工1~4英寸的晶圓，而現(xiàn)在的晶圓廠很多都已經(jīng)從12英寸晶圓起步，采用國產(chǎn)光刻機很難在商業(yè)上具有競爭力。即使是不考慮成本打算加工4英寸晶圓，很遺憾與之配套的設備目前都還沒有跟上。

并且由于這臺光刻機采用的是接觸式光刻，一點點缺陷就會造成品質(zhì)問題，所以只能做簡單的線、點、光柵等部件，而對于生產(chǎn)芯片這件超級復雜的事情來說，目前還不可能，需要進一步的研發(fā)迭代。

再來說說突破，國產(chǎn)光刻機最大的突破在于沒有重復走ASML的老路，而是另辟蹊徑，采用了表面等離子體（SP）光刻技術，形成了一條全新的納米光學光刻技術路線；同時具有完全自主知識產(chǎn)權，為超材料/超表面、第三代光學器件、廣義芯片等變革性領域的跨越式發(fā)展提供了制造工具。

不僅如此，目前ASML的頂級EUV光刻機用的是13.5nm的極紫外光源，它的成本極高，一個就要3000萬元人民幣（還必須要在真空下使用），以至于荷蘭ASML獨家壟斷的EUV光刻機創(chuàng)造了“一臺賣一億美金”的神話。

而國產(chǎn)光刻機采用的是傳統(tǒng)的365nm汞燈做光源，一只費用僅為數(shù)萬元，光刻機整機價格在百萬元至千萬元級別，成本大大降低，絕對是一個了不起的技術突破。

所以我們有理由樂觀地期待，國產(chǎn)光刻機在進行若干次技術迭代后可以逐步趕上、甚至替代ASML的光刻機，作為國產(chǎn)芯片制造的核心裝備。