華為全部專(zhuān)利？目前，華為技術(shù)有限公司已公布國(guó)內(nèi)專(zhuān)利30351項(xiàng)，其中:發(fā)明專(zhuān)利(28683項(xiàng))、實(shí)用新型(812項(xiàng))、外觀設(shè)計(jì)(856項(xiàng))。企業(yè)是不是要申請(qǐng)高新技術(shù)企業(yè)后才能申請(qǐng)專(zhuān)利？不會(huì)，企業(yè)隨時(shí)隨

華為全部專(zhuān)利？

目前，華為技術(shù)有限公司已公布國(guó)內(nèi)專(zhuān)利30351項(xiàng)，其中:發(fā)明專(zhuān)利(28683項(xiàng))、實(shí)用新型(812項(xiàng))、外觀設(shè)計(jì)(856項(xiàng))。

企業(yè)是不是要申請(qǐng)高新技術(shù)企業(yè)后才能申請(qǐng)專(zhuān)利？

不會(huì)，企業(yè)隨時(shí)隨地都可以申請(qǐng)專(zhuān)利。只要有自主研發(fā)創(chuàng)新。

2021年專(zhuān)利申請(qǐng)數(shù)量和通過(guò)率？

專(zhuān)利申請(qǐng)和授權(quán)量增速放緩。三類(lèi)專(zhuān)利中，發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)量比上年下降9.2%，占專(zhuān)利申請(qǐng)總量的32.0%。國(guó)內(nèi)發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)量達(dá)到124.4萬(wàn)件，比上年下降10.8%。國(guó)內(nèi)發(fā)明專(zhuān)利授權(quán)量36.1萬(wàn)件，比上年增長(zhǎng)4.3%。國(guó)內(nèi)企業(yè)發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)和授權(quán)量分別占發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)和授權(quán)總量的65.0%和61.6%。每萬(wàn)人口發(fā)明專(zhuān)利擁有量達(dá)到13.3件。PCT國(guó)際專(zhuān)利申請(qǐng)量達(dá)到5.9萬(wàn)件，居世界第一。2018年，三方專(zhuān)利數(shù)量達(dá)到5323件，位居世界第四。

一是專(zhuān)利申請(qǐng)和授權(quán)增速放緩。

2019年，專(zhuān)利申請(qǐng)量為438萬(wàn)件，比上年增長(zhǎng)1.3%。其中，發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)量為140.1件，比上年下降9.2%，占專(zhuān)利申請(qǐng)總量的32%；實(shí)用新型專(zhuān)利申請(qǐng)226.8萬(wàn)件，比上年增長(zhǎng)9.5%；外觀設(shè)計(jì)專(zhuān)利申請(qǐng)71.2萬(wàn)件，比上年增長(zhǎng)0.4%。

圖1三類(lèi)專(zhuān)利申請(qǐng)總量變化(2009-2019年)

2019年，我國(guó)專(zhuān)利授權(quán)量為259.2萬(wàn)件，比上年增長(zhǎng)5.9%，增速較上年明顯回落。其中，發(fā)明專(zhuān)利授權(quán)量45.3萬(wàn)件，比上年增長(zhǎng)4.8%；實(shí)用新型專(zhuān)利和外觀設(shè)計(jì)專(zhuān)利授權(quán)量分別為55.7萬(wàn)件和158.2萬(wàn)件，比上年分別增長(zhǎng)3.8%和7.0%。

二是國(guó)內(nèi)發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)量首次下降。

2019年，國(guó)內(nèi)專(zhuān)利申請(qǐng)總量達(dá)到419.5萬(wàn)件，比上年增長(zhǎng)1.2%。其中，國(guó)內(nèi)發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)量在連續(xù)多年增長(zhǎng)后首次下降，達(dá)到124.4萬(wàn)件，比上年下降10.8%；實(shí)用新型專(zhuān)利申請(qǐng)226萬(wàn)件，比上年增長(zhǎng)9.5%；外觀設(shè)計(jì)專(zhuān)利申請(qǐng)69.2萬(wàn)件，比上年增長(zhǎng)0.4%。

圖2國(guó)內(nèi)外發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)量(2009-2019年)

2019年，國(guó)內(nèi)專(zhuān)利授權(quán)量達(dá)到247.4萬(wàn)件，比上年增長(zhǎng)6.0%。其中，發(fā)明專(zhuān)利授權(quán)量36.1萬(wàn)件，比上年增長(zhǎng)4.3%；實(shí)用新型專(zhuān)利授權(quán)量157.4萬(wàn)件，比上年增長(zhǎng)7.0%；外觀設(shè)計(jì)專(zhuān)利授權(quán)量53.9萬(wàn)件，比上年增長(zhǎng)4.2%。