電鍍鍍鉻的溫度多少合適？45-50度。從現(xiàn)有技術(shù)可知，鍍鉻電解液有幾種類型，都是以鉻酐為主要成分，根據(jù)外加離子的不同而分類。如含SO2-4和SiF2-6的復(fù)合鍍鉻電解液，含SrSO4和K2SiF6的自

電鍍鍍鉻的溫度多少合適？

45-50度。

從現(xiàn)有技術(shù)可知，鍍鉻電解液有幾種類型，都是以鉻酐為主要成分，根據(jù)外加離子的不同而分類。如含SO2-4和SiF2-6的復(fù)合鍍鉻電解液，含SrSO4和K2SiF6的自調(diào)節(jié)鍍鉻電解液，含KBF4的低鉻酸酐鍍鉻電解液等。目前，國(guó)內(nèi)外工業(yè)上應(yīng)用最廣泛的是含SO2-4的標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻電解液。這些類型的鍍鉻電解液大多采用高濃度鉻酐(280 ~ 300 g/L)和高溫(482)，對(duì)溫度要求嚴(yán)格。一般只允許2 ~ 3的波動(dòng)范圍。由于溫度高、鉻酐濃度高、析氫嚴(yán)重，易產(chǎn)生鉻酸霧和含高濃度六價(jià)鉻的廢水，危害工人健康，污染環(huán)境。而且鉻酸酐利用率低，原材料消耗高。為了消除鉻酸霧和控制溫度，需要設(shè)置排氣、加熱和冷卻裝置，能耗高，操作麻煩。對(duì)于一些難鍍零件，其深鍍甚至電鍍能力都不理想。比如縫紉機(jī)離合螺絲的小孔和反面很難鍍鉻。添加KBF4等低鉻酸酐電解液在試生產(chǎn)中也存在槽電壓高、高壓電源(18 ~ 20 V)、深鍍能力差的缺點(diǎn)。1983年第三期《電鍍與整理》報(bào)道了“以稀土元素為添加劑的低濃度鍍鉻工藝”。雖然這種“工藝”在報(bào)道中表現(xiàn)出諸多優(yōu)點(diǎn)，但其鍍鉻溫度仍為45 ~ 50，也屬于高溫范疇。而且這種“工藝”對(duì)溫度的適用范圍仍然很窄，所以未能克服高溫鍍鉻帶來(lái)的各種缺陷。

本發(fā)明的目的是提供一種鍍鉻添加劑及其使用工藝，可以降低鍍鉻電解液中鉻酐的濃度，降低鍍鉻溫度，擴(kuò)大鍍鉻工藝對(duì)溫度的適用范圍，簡(jiǎn)化操作，改善勞動(dòng)條件，減少環(huán)境污染，有利于工人健康，降低原材料和能源消耗，提高經(jīng)濟(jì)效益。

hc是不是鍍鉻？

Hc是鍍鉻的。

HC鍍鉻添加劑是國(guó)際上新一代鍍鉻催化劑和工藝，也是我國(guó)較早引進(jìn)的新型鍍鉻添加劑。它克服了硫酸催化劑和氟化物催化劑的許多缺點(diǎn)。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和多年的經(jīng)驗(yàn)積累，鍍鉻工藝已經(jīng)達(dá)到了一個(gè)新的高度。

該工藝適用于鍍硬鉻、微裂紋鉻和裝飾鉻。使用該添加劑及其工藝，涂層質(zhì)量高，工藝穩(wěn)定。