CCD的基本工作原理是什么？CCD的基本工作原理：在n型或p型硅襯底上生長一薄層二氧化硅，然后將金屬電極沉積在二氧化硅層上，用光刻法進行蝕刻。這些規(guī)則排列的金屬氧化物半導體電容器陣列和適當?shù)妮斎胼敵鲭?/p>

CCD的基本工作原理是什么？

CCD的基本工作原理：在n型或p型硅襯底上生長一薄層二氧化硅，然后將金屬電極沉積在二氧化硅層上，用光刻法進行蝕刻。這些規(guī)則排列的金屬氧化物半導體電容器陣列和適當?shù)妮斎胼敵鲭娐窐?gòu)成了基本的CCD移位寄存器。當時鐘脈沖被施加到金屬柵電極上時，在半導體中相應的柵電極下形成可以存儲少數(shù)載流子的勢阱。信號電荷可以通過光注入或電注入的方式輸入到勢阱中。然后，時鐘脈沖的相位和幅度周期性地改變，勢阱的深度隨時間而改變，使得注入的信號電荷可以在半導體中定向傳輸。CCD輸出是通過偏置PN結(jié)收集電荷，然后放大復位輸出離散信號。